【ITBEAR科技資訊】12月24日消息，近期，荷蘭的領(lǐng)先光刻設(shè)備制造商ASML宣布了一項(xiàng)重大合作，他們將優(yōu)先向Intel公司交付全新的高數(shù)值孔徑(High NA EUV)極紫外光刻機(jī)。這一重要合作將有助于計(jì)算機(jī)芯片制造商生產(chǎn)更小、更高性能的半導(dǎo)體。
據(jù)了解，每臺(tái)高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)的成本超過3億美元，是極為昂貴和復(fù)雜的設(shè)備。ASML在其官方社交媒體賬號(hào)上發(fā)布了一張現(xiàn)場(chǎng)照片，展示了這些光刻機(jī)的運(yùn)輸過程。光刻機(jī)的部件被謹(jǐn)慎地放置在一個(gè)保護(hù)箱內(nèi)，并且用紅絲帶裝飾，象征著這一重要的交付時(shí)刻。這些光刻機(jī)將從ASML位于荷蘭埃因霍溫的總部發(fā)往Intel公司。
ASML公司表示：“耗時(shí)十年的開創(chuàng)性科學(xué)和系統(tǒng)工程值得鞠一躬!我們很高興也很自豪能夠?qū)⑽覀兊牡谝慌_(tái)高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)交付給Intel?！边@標(biāo)志著雙方的合作取得了顯著進(jìn)展。
高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)是相當(dāng)龐大的設(shè)備，需要分裝在250個(gè)單獨(dú)的板條箱中進(jìn)行運(yùn)輸，其中包括13個(gè)大型集裝箱。這些光刻機(jī)的運(yùn)輸和安裝過程需要極高的技術(shù)和專業(yè)知識(shí)，以確保它們?cè)谀康牡匕踩度胧褂谩?/p>
根據(jù)ITBEAR科技資訊了解，預(yù)計(jì)這些高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)將在2026年或2027年用于商業(yè)芯片制造。NA數(shù)值孔徑是光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的重要參數(shù)，它直接影響光刻的分辨率和工藝節(jié)點(diǎn)的達(dá)成。隨著金屬間距縮小到30納米以下，也就是工藝節(jié)點(diǎn)超越5納米，低數(shù)值孔徑光刻機(jī)的分辨率將不足以滿足需求，因此更高數(shù)值孔徑的光刻機(jī)變得必不可少。
早在今年9月，ASML宣布將在年底交付第一臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)，型號(hào)為“Twinscan EXE:5000”，該光刻機(jī)可用于制造2納米工藝甚至更先進(jìn)的芯片，進(jìn)一步推動(dòng)了半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)發(fā)展。
