【ITBEAR科技資訊】12月25日消息，據可靠消息源披露，佳能高管在最近的一次采訪中透露了關于納米壓印技術的驚人發展，該技術據稱可生產電路線寬僅為2納米的產品，而這一領域的獨家領先地位僅由佳能一家所占有。
佳能半導體機器業務部長巖本和德解釋道，納米壓印技術的核心原理是將半導體電路圖刻在掩膜上，然后將其壓印到晶圓上，僅需一次壓印即可形成電路。通過不斷改進掩膜，甚至可以實現電路線寬為2納米的產品制造。
這項技術的應用將使客戶的實際成本降低至傳統光刻設備的一半，而且由于納米壓印設備的體積較小，因此在研發等方面的引入變得更加便捷。
當被詢問是否存在其他競爭公司時，巖本和德表示，全球范圍內，只有佳能公司在半導體光刻領域進行了納米壓印設備的業務，其準入門檻相當高。
自2017年左右開始，佳能一直在與鎧俠和大日本印刷等公司持續合作開發這一技術。巖本和德補充說：“目前，我們已經可以看到納米壓印技術在量產方面取得了實質性進展，我們相信不久將能夠面向客戶銷售。”
他還表示，佳能已經收到了來自半導體制造商、大學和研究機構的許多咨詢，因為引入EUV光刻設備需要巨額成本，而作為替代方案的納米壓印技術備受期待。
