佳能(CAJPY.US)計劃將其新型芯片制造設(shè)備的定價定在阿斯麥(ASML.US)最佳光刻機成本的一小部分，尋求在尖端設(shè)備領(lǐng)域取得進展。佳能此前推出了納米壓印半導(dǎo)體制造系統(tǒng)，試圖通過將該技術(shù)定位為比現(xiàn)有最先進工具更簡便、更易獲取的替代方案，來重振其市場地位。
佳能的新型芯片制造機器可以利用極紫外光刻（EUV）技術(shù)，生產(chǎn)相當(dāng)于5納米規(guī)模的電路，這一領(lǐng)域由行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者阿斯麥壟斷。佳能預(yù)計，隨著技術(shù)的持續(xù)進步和優(yōu)化，其設(shè)備將有望實現(xiàn)下一代2納米的生產(chǎn)水平
該公司首席執(zhí)行官Fujio Mitarai表示，該公司的新納米壓印技術(shù)將為小型半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進芯片開辟一條道路，目前這種技術(shù)幾乎完全屬于該行業(yè)最大的公司。
Mitarai表示，“這款產(chǎn)品的價格將比阿斯麥的EUV設(shè)備低一位數(shù)，”他還表示，最終的定價決定還沒有做出。
阿斯麥?zhǔn)荅UV工具的唯一供應(yīng)商，這種設(shè)備是世界上最先進的芯片制造機器，每臺價值數(shù)億美元。只有少數(shù)現(xiàn)金充裕的公司有能力投資于這些工具，這些工具目前正因其在科技供應(yīng)鏈中的關(guān)鍵地位而受到審查。在美國向其盟友施壓，要求其限制技術(shù)流向中國之后，阿斯麥被禁止向中國客戶出口EUV系統(tǒng)。
這給佳能上個月上市的新工具帶來了希望。今年7月，日本擴大了對芯片制造出口的限制，但沒有明確提到納米壓印光刻技術(shù)。
但Mitarai表示，佳能可能無法將這些機器運往中國。“我的理解是，14納米技術(shù)以上的任何產(chǎn)品都是禁止出口的，所以我認為我們賣不出去。”日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省一位官員表示，他無法評論出口限制將如何影響某家公司或產(chǎn)品。
佳能與Dai Nippon Printing Co.和存儲芯片制造商鎧俠合作研究納米壓印工藝已有近十年的時間。與通過反射光工作的極紫外光刻技術(shù)不同，佳能的技術(shù)將電路圖案直接印在晶圓上，從而制造出據(jù)稱與最先進節(jié)點相當(dāng)?shù)膸缀涡螤畹男酒M管速度要慢得多。
這臺新機器讓芯片制造商可以選擇降低對代工廠的依賴，同時也讓臺積電和三星電子等代工芯片制造商更有可能批量生產(chǎn)芯片。佳能表示，這種機器所需的功率只有其EUV同類產(chǎn)品的十分之一。
Mitarai表示:“我不認為納米壓印技術(shù)會取代EUV，但我相信這將創(chuàng)造新的機會和需求。”“我們已經(jīng)收到了很多客戶的咨詢。”
佳能此前一直專注于制造不太先進的芯片，2014年開始押注于納米印記技術(shù)，收購了Molecular imprint Inc.。作為臺積電的供應(yīng)商之一，佳能正在東京北部的宇都宮建設(shè)其20年來的第一家光刻設(shè)備新工廠，將于2025年投產(chǎn)。
【來源：智通財經(jīng)APP】
