【ITBEAR科技資訊】10月14日消息，佳能公司宣布推出全新的芯片生產設備FPA-1200NZ2C，該設備采用了一種獨特的方法，與傳統復雜的光刻技術不同，可以制造出5納米的芯片。
據了解，FPA-1200NZ2C的工作原理與行業領先者ASML的技術截然不同。這一技術更類似于印刷，而不是傳統的光刻技術，它不使用圖像投影來將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上。
這套新設備能夠適用于最小尺寸為14平方毫米的硅晶圓，從而可以生產出與5納米工藝相匹配的芯片。這一創新表示，佳能正在探索替代性的制造方法，突破了傳統技術的限制。
據ITBEAR科技資訊了解，這一技術被稱為納米印刷(Nanoprinted lithography)，通常被視為光學光刻技術的低成本替代方案。此前，一些存儲芯片制造商，如SK海力士和鎧俠，曾嘗試使用這種方法，但面臨產品缺陷率較高的問題，最終放棄了這一嘗試。
佳能表示他們將繼續改進和發展這套系統，未來有望應用于生產2納米的芯片，進一步推動半導體行業的技術發展。
