【ITBEAR科技資訊】9月20日消息，英特爾在今天舉辦的技術創新峰會上發布了最新的制程工藝進展，為半導體行業帶來了令人振奮的消息。
根據英特爾的公告，他們正在全力加速 Intel 4 工藝的量產，首批采用這一工藝的處理器將是全新的 Meteor Lake。Intel 4 工藝采用極紫外光刻技術，這將大幅提升制程的良率和面積微縮，為處理器的高能效性能奠定了堅實基礎。同時，正在研發中的 Intel 3 工藝將帶來更高密度的設計庫，提升晶體管的驅動電流，并有效降低通孔電阻，更加廣泛地采用了EUV光刻技術。
據ITBEAR科技資訊了解，Intel 20A 工藝標志著英特爾步入埃米時代，該工藝將引入創新的 RibbonFET 和 PowerVia 技術，預計將在 2024 年上半年達到制造準備就緒狀態。此外，Intel 18A 工藝將在 2024 年下半年準備就緒，它基于 Intel 20A 工藝，有望提高每瓦性能 10%，使英特爾在制程節點領域保持領先地位。
這一系列制程工藝的發布，顯示了英特爾在半導體制造領域不斷取得的進步，將有助于公司在未來幾年內在市場上保持競爭力，并滿足不斷增長的技術需求。英特爾的技術創新峰會為行業帶來了令人振奮的展望，也為全球科技發展注入了新的動力。
