【ITBEAR科技資訊】9月6日消息，尼康公司今日宣布，他們即將推出一款全新的i-line步進式光刻機，型號為“NSR-2205iL1”。預計該產品將在2024年夏季正式上市，為半導體制造業帶來更加先進的技術支持。
據悉，這款全新的NSR-2205iL1步進式光刻機具備獨特的特點，最引人注目的是其5倍縮小的投影倍率。這一創新將使得該設備能夠在更小的尺寸范圍內進行高精度的投影放大，從而支持多種領域的產品制造，包括功率半導體、通信半導體以及MEMS等。
尼康公司表示，這款NSR-2205iL1光刻機在技術上與其現有的i-line曝光設備高度兼容，不僅能夠滿足客戶的多樣化需求，還將成為其近25年歷史中一次重大的技術更新。與現有的i-line曝光系統相比，NSR-2205iL1在經濟性方面表現出色，無論晶圓材料的差異，都能夠為各種半導體器件的生產提供優化的解決方案。
隨著電動汽車、高速通信和各種IT設備的普及，半導體需求正呈指數級增長。尼康指出，這些半導體需要具備各種挑戰性的功能，因此，制造商需要專門的基板和曝光系統來生產這些芯片。新推出的NSR-2205iL1光刻機將在這一背景下發揮重要作用，不僅擴展了功能選項，以滿足不同客戶的需求，還將支持長期的設備生產。
據ITBEAR科技資訊了解，NSR-2205iL1光刻機具備多項優點，如多點自動對焦、先進的晶圓臺平整技術以及寬深度焦點范圍(DOF)等。這些特點使得該光刻機在高精度晶圓測量的基礎上，能夠為各種半導體制造過程提供高產率和優化的產量水平。此外，該光刻機還具備晶圓厚度和尺寸的兼容性，高晶圓翹曲容忍度以及靈活的功能，例如支持SiC(碳化硅)和GaN(氮化鎵)加工。因此，NSR-2205iL1將以卓越的性價比，滿足不同芯片制造商的多樣化需求。
