【ITBEAR科技資訊】7月6日消息,據(jù)ITBEAR科技資訊了解,荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML近日被報(bào)道試圖繞過荷蘭的新銷售許可禁令,計(jì)劃推出一款專為中國市場(chǎng)設(shè)計(jì)的特別版DUV光刻機(jī)。該消息稱,如果這一計(jì)劃得以繼續(xù)推進(jìn),中芯國際、華虹等中國半導(dǎo)體企業(yè)將能夠繼續(xù)使用荷蘭生產(chǎn)的設(shè)備來生產(chǎn)28納米及更成熟工藝的芯片。
據(jù)了解,這款特別版DUV光刻機(jī)是基于ASML的Twinscan NXT: 1980Di光刻系統(tǒng)進(jìn)行改造的。而Twinscan NXT: 1980Di光刻系統(tǒng)是ASML在10年前推出的一款舊型號(hào),因此不在此次荷蘭官方禁令的限制范圍內(nèi)。
Twinscan NXT: 1980Di光刻系統(tǒng)是ASML目前效率相對(duì)較低的光刻機(jī)型之一,它支持NA 1.35光學(xué)器件,分辨率可達(dá)到小于38納米,理論上可以應(yīng)用于7納米工藝的生產(chǎn)。目前大多數(shù)晶圓廠使用1980Di光刻機(jī)主要生產(chǎn)14納米及更高工藝的芯片,而很少使用它來生產(chǎn)7納米芯片。
ASML的此次行動(dòng)被視為一種規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令的嘗試,旨在滿足中國市場(chǎng)對(duì)高端半導(dǎo)體設(shè)備的需求。這也反映了中國半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)先進(jìn)工藝技術(shù)和設(shè)備的迫切需求,尤其是在產(chǎn)能緊張和國內(nèi)芯片自給自足戰(zhàn)略的背景下。
盡管ASML的特別版DUV光刻機(jī)基于舊型號(hào)改造,但其推出仍可能引起一定的關(guān)注和爭(zhēng)議。荷蘭政府此前對(duì)向中國出口先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施了一些限制,這一舉措被視為對(duì)華為等中國科技巨頭的制裁措施之一。然而,ASML通過此次推出特別版光刻機(jī),似乎試圖通過間接方式滿足中國市場(chǎng)的需求,以維持與中國半導(dǎo)體企業(yè)的合作關(guān)系。