【ITBEAR科技資訊】7月12日消息，三星電子近期在其半導(dǎo)體代工業(yè)務(wù)中取得了令人矚目的進(jìn)展。據(jù)了解，三星電子成功提高了其最新一代4納米工藝的成品率，超過(guò)了75%的良率。這一突破引發(fā)了人們對(duì)于三星擴(kuò)大代工客戶(hù)的猜測(cè)，并有分析師指出，高通和英偉達(dá)等大型客戶(hù)與三星再度合作的可能性正在增加。
過(guò)去，三星電子的代工廠曾經(jīng)歷過(guò)產(chǎn)品上市延遲和10納米以下工藝良率提升緩慢的困境，導(dǎo)致許多主要客戶(hù)紛紛轉(zhuǎn)向臺(tái)積電。去年，臺(tái)積電的資本支出和產(chǎn)能分別是三星電子代工業(yè)務(wù)的3.4倍和3.3倍，進(jìn)一步拉大了兩者之間的差距。臺(tái)積電在7納米以下先進(jìn)工藝方面市場(chǎng)占有率達(dá)到了驚人的90%。
然而，隨著三星電子近期4納米工藝成品率超過(guò)75%、3納米工藝成品率超過(guò)60%，再加上臺(tái)積電漲價(jià)的影響，業(yè)界普遍認(rèn)為三星有望重新奪回被臺(tái)積電搶走的客戶(hù)。高通、英偉達(dá)等多位客戶(hù)也表達(dá)了將其代工生產(chǎn)進(jìn)行多元化的意向。據(jù)ITBEAR科技資訊了解，三星計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)繼續(xù)提升工藝技術(shù)，推出更先進(jìn)的2納米級(jí)和1.4納米級(jí)工藝。
另外，三星電子并未止步于擴(kuò)大技術(shù)供應(yīng)，他們還致力于提升在韓國(guó)平澤和美國(guó)得州泰勒市的產(chǎn)能。根據(jù)三星代工在SFF 2023上公布的最新工藝技術(shù)路線圖，他們計(jì)劃于2025年推出2納米級(jí)的SF2工藝，并于2027年推出1.4納米級(jí)的SF1.4工藝。同時(shí)，該公司還公布了SF2工藝的一些特性。平澤P3線將在2023年下半年開(kāi)始量產(chǎn)芯片，而得州泰勒市新建廠房預(yù)計(jì)將于今年年底完工，并于2024年下半年開(kāi)始運(yùn)營(yíng)。三星電子計(jì)劃到2027年將潔凈室容量比2021年增加7.3倍。
