在美國停止向中國科技公司供應(yīng)芯片,并威脅臺(tái)積電將不允許給華為代工芯片的新聞下,有人評(píng)論:“因封鎖而主動(dòng)把市場(chǎng)讓出來,這是頭一次!”
作為領(lǐng)先者主動(dòng)放棄市場(chǎng)可不是一步好棋,一般情況下,科技市場(chǎng)很難出現(xiàn)大的反轉(zhuǎn),尤其是在美國壟斷的情況下,但現(xiàn)在美國正在主動(dòng)與中國到處脫鉤,這將促進(jìn)了中國一些相關(guān)產(chǎn)業(yè)的得到發(fā)展。

美國限制是為了讓中國在某些問題上做出讓步。白宮認(rèn)為,中國無法大量生產(chǎn)芯片,因?yàn)橹袊狈ιa(chǎn)芯片的光刻機(jī)。據(jù)報(bào)道,中芯國際可以批量生產(chǎn)14納米芯片,但是由于缺少EUV光刻機(jī),它生產(chǎn)不了7納米及以下的芯片。
中國在相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展真的那么被動(dòng)嗎?
并沒有你想象中的那么差勁,更不用說我們?cè)缇吞崆伴_辟了道路。許多人只看到美國和日本目前在集成電路產(chǎn)業(yè)中的優(yōu)勢(shì),而國內(nèi)似乎一片空白,但實(shí)際上,新中國成立后不久就已經(jīng)開始對(duì)該領(lǐng)域的研發(fā)進(jìn)行投資,1958年實(shí)現(xiàn)了硅單晶,比日本還早兩年。

但是這一領(lǐng)域的市場(chǎng)主要由美國主導(dǎo),而企業(yè)都具有逐利性,他們需考慮到市場(chǎng)成本。而中國人口眾多,經(jīng)濟(jì)基礎(chǔ)薄弱,我們須優(yōu)先考慮就業(yè)等問題,所以市場(chǎng)規(guī)模大,技術(shù)含量相對(duì)低的產(chǎn)品得到了優(yōu)先發(fā)展。對(duì)于那些市場(chǎng)規(guī)模小,技術(shù)難度高的產(chǎn)品,成本不劃算,不具有快速的效益,通常將由各大國或研究機(jī)構(gòu)研發(fā),而并不是我們做不了,最典型的例子是光刻機(jī)。

大家總是認(rèn)為西方光刻機(jī)是先進(jìn)的,所以它可以制造芯片,而中國沒有技術(shù)就不能制造它,但是這種邏輯是錯(cuò)誤的,因?yàn)橹豢吹搅四w淺的市場(chǎng)地位。就光刻機(jī)本身而言,它并不是一種完全不可用的技術(shù)。荷蘭ASML公司占全球EUV光刻機(jī)市場(chǎng)的100%,但過去兩年全球總出貨量僅為44臺(tái),這表明光刻機(jī)市場(chǎng)狹窄且每個(gè)組件的生產(chǎn)成本都很高,因此多年以來,國內(nèi)沒有一個(gè)企業(yè)愿意去批量生產(chǎn)。

但實(shí)際上,中國是具有研制能力的。例如,上海微電子的90納米光刻機(jī)就是一種成熟的產(chǎn)品,上海光機(jī)所在8年前就開始開發(fā)EUV光源,多虧特朗普,使得原本只是純科學(xué)研究模式的中國光刻機(jī),被迫轉(zhuǎn)型走向市場(chǎng)。也許這就是我們等待了多年的機(jī)會(huì),原本散布在中國各個(gè)研究機(jī)構(gòu)中EUV領(lǐng)域,將展開全面的合圍。

上海微電子最近宣布,它將在2021-2022年交付首臺(tái)國產(chǎn)28nm工藝浸沒式光刻機(jī),這意味著中國在光刻機(jī)制造領(lǐng)域已經(jīng)超過了日本的尼康和佳能,僅次于ASML。同時(shí),研究人員說,這種光刻機(jī)將使用ArF光源,雕刻的精度約為1.9納米,并在多次曝光下能生產(chǎn)11納米工藝芯片。此外,中國已經(jīng)在拋光液,拋光墊,光核膠,蝕刻液,顯影劑和其他材料(即芯片領(lǐng)域涉及整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈),在這兩年內(nèi)能實(shí)現(xiàn)了國內(nèi)替代。

我們擁有的技術(shù)能生產(chǎn)更高精尖的光刻機(jī),但我們?nèi)鄙俚氖鞘袌?chǎng)機(jī)會(huì)。既然美國愿意放棄這個(gè)市場(chǎng),這將為我國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和壯大提供了絕好機(jī)會(huì),在這一點(diǎn)上,我們必須感謝特朗普先生。