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【ITBEAR科技資訊】5月18日消息,日本半導體行業高層于今日上午在日本官邸舉行了一次會談。會議的主要參與者包括日本首相以及臺積電董事長劉德音、英特爾 CEO Pat Gelsinger、美光 CEO Sanjay Mehrotra、三星電子 CEO 慶桂顯、IBM 資深副總裁 Dario Gil、應用材料半導體產品事業群總裁 Prabu Raja、IMEC 執行副總裁 Max Mirgoli等行業重要人物。

據路透社報道,日本政府希望各公司擴大對日本的直接投資,經濟產業省也將提供對半導體產業的支持。會后的記者會上,參與會議的西村康稔表示,美光已提出在日本廣島工廠進行最新一代DRAM的量產計劃,并最高投資5000億日元(約合255億元人民幣)。為促進先進半導體投資,日本政府將提供相關支持預算。據悉,共有1.3萬億日元(約合663億元人民幣)的預算可用于補助半導體行業投資。

西村康稔還在記者會上表示,英特爾正與日本的半導體材料廠和設備廠就后段工藝進行擴大合作。

除此之外,三星電子還計劃在日本設立后段制程相關的研發中心,而應用材料將與日本先進半導體制造商Rapidus加強合作,以推動新產品開發和人才培育。

據ITBEAR科技資訊了解,臺積電目前正在日本熊本縣建設晶圓廠,在會談中也提到考慮根據客戶需求和日本政府的補貼,擴大在日本的投資。

此前報道還提到,IMEC計劃在日本北海道設立研發中心,協助Rapidus研發2nm工藝的量產技術。

總之,本次會談為日本半導體產業的發展提供了機遇,各公司表達了在日本市場的擴大投資意愿,并與當地公司加強合作以推動技術研發和創新。對于日本半導體行業來說,這將進一步促進其在全球市場上的競爭力。

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標簽:臺積電考慮在日本擴大投資IMEC協助研發2nm工藝技術 業界動態
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