【ITBEAR科技資訊】5月10日消息，據報道，中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”)推出了自主研發的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex? CW。這款設備配備了擁有自主知識產權的優化混氣方案及加熱臺，具有優秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節靈活性。Preforma Uniflex? CW可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔(十個反應臺)，每個反應腔可以同時加工兩片晶圓，能夠實現更高的生產效率，同時保證較低的生產成本和化學品消耗。
據ITBEAR科技資訊了解，這款設備具有良好的工藝處理能力，可適應彎曲度較大的晶圓。其階梯覆蓋率和填充能力非常優秀，能夠滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。
中微公司作為一家致力于半導體裝備研發的高科技企業，一直以技術創新為核心競爭力，致力于推進中國半導體裝備產業的發展。此次推出的Preforma Uniflex? CW設備充分展示了中微公司在自主研發方面的實力，對于中國半導體裝備行業的發展有著重要意義。
