【ITBEAR科技資訊】4月24日消息，據(jù)外媒報(bào)道，臺(tái)積電在去年12月29日開始商業(yè)化生產(chǎn)采用鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管架構(gòu)的3nm制程工藝。雖然比三星電子晚了近半年，但該公司的3nm制程工藝備受業(yè)界看好。
臺(tái)積電CEO魏哲家在一季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上表示，他們的3nm制程工藝以可觀的良品率量產(chǎn)，并且客戶對(duì)該工藝的需求超過了他們的產(chǎn)能。預(yù)計(jì)今年的產(chǎn)能將得到充分利用。從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來看，臺(tái)積電的3nm制程工藝是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)之一。他們預(yù)計(jì)客戶對(duì)該工藝的強(qiáng)勁需求將持續(xù)多年，他們對(duì)3nm制程工藝家族成為另一個(gè)大而持久的工藝節(jié)點(diǎn)充滿信心。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，魏哲家透露，臺(tái)積電的3nm制程工藝預(yù)計(jì)從三季度開始就將為他們帶來可觀的營(yíng)收。該工藝在臺(tái)積電今年全年晶圓代工業(yè)務(wù)收入中所占的比例預(yù)計(jì)為中等個(gè)位數(shù)。此外，臺(tái)積電也將加快在5nm和3nm工藝的擴(kuò)建計(jì)劃，以滿足未來市場(chǎng)的需求。
