據TheElec報道，ASML近日在“2022半導體EUV生態系統全球大會”上指出，預計今年EUV生產臺數將超過50臺。
2019年ASML的EUV設備生產臺數為22臺，如今已增加到2021年的42臺。ASML表示有信心今年將超過50臺，明年生產臺數將進一步增加。
目前半導體行業最關心的問題之一是引進High-NAEUV設備的時間點。ASML透露，High-NA EUV設備將于明年年底推出初始版本，量產型號將于2024年底或2025年初推出。
據etnews報道，ASML財報稱，在High-NA EUV業務中，公司收到了TWINSCAN EXE:5200的額外訂單，所有當前的EUV客戶都已經下單了下一代半導體設備“High-NA”，這其中包括三星和SK海力士。
最先進工藝的競爭預計將加劇。繼臺積電和英特爾之后，韓國半導體制造商也在準備引進能夠實現2nm工藝的設備。如果單看技術，三星只落后于臺積電半年時間。但從市場統計來看，三星在全球芯片代工市場份額占比僅為臺積電三分之一。
High-NA EUV設備是將集光能力的鏡頭數值孔徑（NA）從0.33提高到0.55的設備。比現有的EUV設備處理更精細的半導體電路。業界大多數人認為，High-NA設備對2nm工藝至關重要。
據推測，High-NA EUV光刻機的單價為5000億韓元，是現有EUV光刻機的2倍。業內人士指出，如果三星電子購買10臺High-NA EUV光刻機，將需要5萬億韓元以上的費用。為了提高韓國的國家產業競爭力，有必要擴大政府的支援。
【來源：集微網】
