據外媒報道，三星宣布3nm工藝技術已正式發流片。據報道，三星的3mm工藝采用GAA架構，性能優于臺積電的3nm FinFET架構。
報告稱，三星在3納米工藝中的流片進展是與新思科技合作完成的，旨在加快為GAA架構的生產工藝提供高度優化的參考方法。三星的3nm工藝采用GAA結構，而不是臺積電或英特爾采用的FinFET結構。因此，三星采用新思科技的 Fusion Design Platform。
在技術性能方面，基于GAA架構的晶體管可以提供比FinFET更好的靜電特性，可以滿足一定柵極寬度的要求。這主要表現在相同尺寸的結構下，GAA的溝道控制能力增強，為尺寸的進一步微縮提供了可能。
