7 月 9 日消息 近日，國內半導體設備廠商至純科技在互動平臺表示，目前至純科技 28nm 節點全部濕法工藝設備已認證完畢。
據了解，芯片制造分為邏輯芯片設計、芯片代工、封裝測試三大環節。其中芯片代工包括晶圓制造、曝光、刻蝕、清洗等流程。濕法清洗設備屬于半導體供給鏈中的清洗環節，清洗是根據不同芯片制程工藝的需求，來對硅晶圓表面進行無損傷清洗，對芯片制造過程中殘留的顆粒、曝光、刻蝕制程形成的自然氧化層以及金屬污染、有機物、犧牲層、拋光殘留物等雜質進行清理。清洗環節占芯片制造工藝步驟的 30% 以上，在芯片制造工藝步驟中，清洗環節所占的比例是最大的。
至純科技表示，國內目前有三家在濕法工藝設備端提供中高階濕法制程設備，分別是至純科技、北方華創和盛美，國內廠商的市場占比在逐年上升中。
資料顯示，至純科技成立于 2000 年，主營業務為高純工藝系統的研發、生產和銷售;半導體濕法清洗設備研發、生產和銷售;光傳感應用及相關光學元器件的研發、生產和銷售。財報顯示，至純科技 2020 年濕法設備出貨量超過 30 臺，新增訂單 5.3 億元，增長 211.8%。
除了 28nm 工藝節點之外，上海證券報的報道中還指出，至純科技 14nm 及 7nm 工藝預計 2022 年可供客戶驗證，客戶包括中芯國際、華虹集團、長鑫存儲、華為、臺灣力晶等行業領先者。
值得一提的是，上個月中國電子信息產業發展研究院電子信息研究所所長溫曉君在接受采訪時表示：“我國將在 2022 年底完成有關 14 納米制程設備的突破”，至純科技將在 2022 年交付給華為、中芯國際認證的 14 納米及 7 納米清洗設備，一定程度上也提高這則消息的可靠性。
