11 月 3 日消息，昨日，中微公司宣布，電容耦合高能等離子體(CCP)刻蝕設備第 1500 個反應臺順利付運國內一家半導體制造商。本次交付的 Primo D-RIE 刻蝕設備反應臺來自該客戶的重復訂單。
▲ 圖源：中微公司
中微公司表示，Primo D-RIE 刻蝕設備被芯片制造商用于制造存儲和邏輯器件。為優化產量而設計，Primo D-RIE 可以配置多達三個雙反應臺反應腔，每個反應腔既可以獨立操作，又可以同時加工兩片晶圓。
自 2007 年 Primo D-RIE 發布以來，中微公司陸續拓展了 CCP 刻蝕設備產品線。CCP 刻蝕設備系列還包括雙反應臺刻蝕設備 Primo AD-RIE、單反應臺刻蝕設備 Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE 和刻蝕及除膠一體化的 Primo iDEA。
據介紹，這些產品用于 5 納米及以下工藝的多種應用。中微公司的刻蝕設備產品線還包括其他兩款電感耦合低能等離子體(ICP)刻蝕設備和硅通孔(TSV)刻蝕設備。
