光刻機(jī)全球龍頭 ASML 在美國(guó)的銷(xiāo)售額連續(xù) 3 年下降，與此形成鮮明對(duì)比的是，同期 ASML 在韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)的銷(xiāo)量增幅高達(dá) 3 倍，證明美國(guó)對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施的投資不足。
據(jù) ETNews 報(bào)道，ASML 占全球光刻機(jī)市場(chǎng)的 84%，并獨(dú)家供應(yīng)先進(jìn)工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。引進(jìn)其設(shè)備的數(shù)量會(huì)影響半導(dǎo)體生產(chǎn)能力，因此其銷(xiāo)售額能夠被用于衡量各地區(qū)對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備投資情況。
財(cái)報(bào)顯示，2019 年到 2021 年，ASML 在美國(guó)的收入下降了約 20%。從 2019 年的 19.8 億歐元，到 2020 年和 2021 年分別減少到 16.57 億歐元和 15.83 億歐元。
同期，ASML 在亞洲的銷(xiāo)售額顯著增長(zhǎng)。在主要的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地韓國(guó)，銷(xiāo)售額從 2019 年的 22.02 億歐元增長(zhǎng)到 2021 年的 62.23 億歐元，增長(zhǎng)了近兩倍。
中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)也從 2019 年的 53.57 億歐元增長(zhǎng)到去年的 73.27 億歐元，增幅為 37%。這是三星電子和 SK 海力士為擴(kuò)大尖端微處理能力，引進(jìn)了大量 EUV 光刻機(jī)的結(jié)果。臺(tái)積電大舉投資半導(dǎo)體設(shè)備，也推動(dòng)了銷(xiāo)售的增長(zhǎng)。
在美國(guó)禁止出口 ASML 核心設(shè)備 EUV 曝光設(shè)備的中國(guó)大陸，其年銷(xiāo)售額也翻了一番，從 2019 年的 13.77 億歐元增至 2021 年的 27.4 億歐元。據(jù)分析，中國(guó)大陸購(gòu)買(mǎi)的光刻設(shè)備比美國(guó)還多。除受管制的 EUV 設(shè)備外，主要引進(jìn)了 ArF、KrF、i 線等光刻設(shè)備。
ASML 在美國(guó)的銷(xiāo)量下降證明，美國(guó)在半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施方面的投資到目前為止還不夠。到 2020 年，美國(guó)缺乏投資半導(dǎo)體晶圓廠的意愿。據(jù)分析，這是因?yàn)橛⑻貭栃歼M(jìn)入代工領(lǐng)域的時(shí)間較晚，以及美光曾經(jīng)對(duì) EUV 設(shè)備持懷疑態(tài)度。
隨著美國(guó)吸引本國(guó)的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地，ASML 設(shè)備的引進(jìn)預(yù)計(jì)將會(huì)加速。英特爾計(jì)劃到 2025 年采用 ASML 下一代曝光設(shè)備，美光也正式使用 EUV 設(shè)備。
但是半導(dǎo)體業(yè)界預(yù)測(cè)，美國(guó)的半導(dǎo)體生產(chǎn)能力不會(huì)立即超過(guò)中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó)。半導(dǎo)體業(yè)界有關(guān)人士表示:“作為 ASML 的主要銷(xiāo)售和核心設(shè)備的 EUV 設(shè)備在中國(guó)臺(tái)灣為 80 臺(tái)，在韓國(guó)為 50 臺(tái)，與美國(guó)存在差距。美國(guó)大舉投資不會(huì)導(dǎo)致短期產(chǎn)能逆轉(zhuǎn)。”
