8 月 22 日消息，今日，中微公司宣布，公司的電容耦合高能等離子體(CCP)刻蝕設(shè)備第 2000 個反應(yīng)臺順利付運國內(nèi)一家半導(dǎo)體制造商。
中微公司指出，本批次運付的 CCP 刻蝕設(shè)備反應(yīng)臺有 Primo AD-RIE 及 Primo HD-RIE 系列產(chǎn)品。其中，Primo AD-RIE-e 是中微第二代電介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品 Primo AD-RIE 的子產(chǎn)品，將應(yīng)用于 5 納米及以下的前段和中段的掩膜層刻蝕的開發(fā)及量產(chǎn)。
該交付批次的 Primo HD-RIE 則具有六個單反應(yīng)臺腔體的系統(tǒng)，定位于為中高深寬比刻蝕提供綜合解決方案。中微公司表示，Primo HD-RIE 在 3D-NAND 及 DRAM 中高深寬比溝槽及深孔刻蝕上表現(xiàn)優(yōu)異，在一些關(guān)鍵制程上已實現(xiàn)量產(chǎn)。
IT之家了解到，數(shù)據(jù)顯示，中微公司 2022 年上半年新簽訂單金額同比增長 61.83% 達到 30.57 億元，營業(yè)收入同比增長了 47.30% 達到 19.72 億元，扣非歸母凈利潤同比增長了 615.26% 達到 4.41 億元，其中刻蝕設(shè)備收入為 12.99 億元，較去年同期增長約 51.48%。
