當(dāng)ASML的EUV光刻機(jī)還在為制造2nm、1nm芯片發(fā)愁的時候，美國公司卻在另一個先進(jìn)光刻方向上取得了突破，Zyvex使用電子束光刻技術(shù)制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，這種芯片可用于量子計算機(jī)。
Zyvex推出的光刻系統(tǒng)名為ZyvexLitho1，基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL電子束光刻方式，制造出了0.7nm線寬的芯片，這個精度是遠(yuǎn)高于EUV光刻系統(tǒng)的，相當(dāng)于2個硅原子的寬度，是當(dāng)前制造精度最高的光刻系統(tǒng)。
這個光刻機(jī)制造出來的芯片主要是用于量子計算機(jī)，可以制造出高精度的固態(tài)量子器件，以及納米器件及材料，對量子計算機(jī)來說精度非常重要。
ZyvexLitho1不僅是精度最高的電子束光刻機(jī)，而且還是可以商用的，Zyvex公司已經(jīng)可以接受其他人的訂單，機(jī)器可以在6個月內(nèi)出貨。
EBL電子束光刻機(jī)的精度可以輕松超過EUV光刻機(jī)，然而這種技術(shù)的缺點(diǎn)也很明顯，那就是產(chǎn)量很低，無法大規(guī)模制造芯片，只適合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它們?nèi)〈鶨UV光刻機(jī)也不現(xiàn)實。
來源：快科技
