在臺積電先前采購EUV (極紫外光) 微影系統設備之后，英特爾今日和ASML共同宣布首度率先采購下世代最新EUV設備High-NA，并計劃2025年導入量產。
依據雙方今日共同新聞稿提到，英特爾和ASML加強合作，推動High-NA在2025年投入制造，此次是英特爾率先且首次訂購ASML的TWINSCAN EXE：5200系統，象征著邁出關鍵一步。
ASML并未揭露哪家半導體廠率先采用下世代EUV，不過自2018年已經接獲4臺新一代High-NA EUV (TWINSCAN EXE:5000) 訂單，當時就被業界點名是臺積電率先預定。
如今英特爾則率先采采購TWINSCAN EXE：5200，讓ASML再度接到一筆新的High-NA EUV訂單。
【來源：愛集微網】
