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臺積電在最新的北美技術研討會上,正式揭曉了其A14制程工藝,這一技術標志著半導體制造領域邁入1.4納米級別的新紀元。據透露,這項先進工藝相較于即將在今年量產的2納米制程,展現出了顯著的性能提升與能效優化。

具體而言,臺積電聲稱,在相同能耗條件下,A14制程工藝能將芯片速度提升最高達15%;反之,在保持相同運算速度的情況下,能耗則可降低最多30%。該工藝在晶體管邏輯密度上的提升超過20%,這無疑為未來的高性能芯片設計開辟了廣闊空間。

臺積電方面進一步透露,A14制程工藝的研發進程順利,且良品率表現超出預期,預示著該技術將按計劃于2028年投入實際生產。這一消息無疑為半導體行業內外帶來了極大的振奮,預示著更強大、更節能的芯片產品即將面世。

臺積電強調,A14制程工藝不僅是對其行業領先的2納米制程技術的重大突破,更是推動人工智能發展的關鍵技術之一。通過提供前所未有的計算速度和能效比,A14制程工藝有望大幅提升智能手機的端側AI能力,使這些設備更加智能化,為用戶帶來前所未有的使用體驗。

臺積電董事長兼首席執行官魏哲家對此表示,公司始終致力于技術創新,以滿足客戶對未來科技發展的期待。臺積電的技術領先地位和卓越制造能力,為客戶提供了堅實的創新支撐。A14制程工藝作為連接物理與數字世界的橋梁,將激發客戶的創新能力,共同推動人工智能技術的未來發展。

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標簽:助力 投產 制程 積電 提升
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