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11 月 27 日消息,ISSCC 官網現已公布 2025 IEEE ISSCC 國際固態電路會議的日程,該會議將于明年 2 月 16 日~20 日在美國加州舊金山舉行。

包括英特爾 CEO 帕特?基辛格、三星電子 DS 部存儲器業務負責人李禎培在內的四位業內人士將在 17 日的全體會議上發表演講。帕特?基辛格將介紹 AI 領域各層級的一系列技術,李禎培則將聚焦各類 AI 存儲器及其發展。

在具體會議日程中,SRAM、非易失性存儲與 DRAM 專題均在 2 月 19 日舉行

其中臺積電將介紹存儲密度達38.1 Mb / mm2 的 2nm Nanosheet 制程 SRAM,英特爾也將展示采用 BSPDN 背面供電設計的 Intel 18A RibbonFET 工藝高密度 SRAM。

而在非易失性存儲與 DRAM 領域,各主題內容如下:

三星電子將帶來 28Gb / mm2 密度的 4XX 層堆疊 1Tb 容量 3D TLC NAND,該閃存采用晶圓鍵合技術,I/O 引腳速率達 5.6Gb/s(對應 5600MT/s),結合IT之家此前報道預計對應第 10 代 V-NAND。

鎧俠-西部數據聯盟將介紹 I/O 引腳速率 4.8Gb/s 的 1Tb3D TLC NAND,該產品讀取操作能效提升了 29%。

在 GDDR7 方面,三星電子將介紹 42.5Gbps 的 24Gb 產品,應對應今年 10 月宣布成功開發的型號。

三星電子還將展出第 5 代 10nm 級(1bnm、12nm 級)工藝的超高速 16GbLPDDR5-Ultra-Pro DRAM,這一產品的 I/O 引腳速率達 12.7Gb/s,較已量產的 10.7Gb/s 進一步提升。

而 SK 海力士則將帶來 75MB/s 編程吞吐量的 321 層(V9)2Tb QLC NAND,這一堆疊數量和單元結構的閃存此前已在今年 8 月的 FMS 2024 展會上亮相。

SK 海力士還將同鎧俠一同介紹雙方合作開發的新型 64Gb DDR4 STT-MRAM,該存儲器件結合了交叉點存儲和磁隧道節結構。

【來源:IT之家

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標簽:三星電子 消息稱 消息 基辛格 業務
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