【ITBEAR】隨著半導體制造工藝的不斷演進，特別是在22納米及以下節點，對套刻誤差的要求日益嚴格。為了滿足這一需求，基于衍射原理的套刻誤差測量技術因其優越性而被廣泛應用。這一技術的關鍵在于套刻標記的設計，其性能直接影響測量精度。
為此，東方晶源依托其強大的計算光刻平臺PanGen?，推出了全新的DBO套刻標記仿真優化產品——PanOVL。該產品通過多維度計算仿真，能夠高效識別并優化套刻標記，顯著提升光刻過程的效率與質量。
PanOVL軟件集成了PanGen OPC?引擎與PanGen Sim?嚴格電磁場仿真引擎，利用GPU+CPU混算及分布式計算框架，實現了大規模套刻標記的高效仿真。這一創新不僅縮短了標記研發周期，還提高了套刻標記的抗工藝擾動能力和信噪比。
PanOVL的推出，進一步強化了東方晶源在計算光刻領域的技術實力，為晶圓制造提供了更先進的EDA解決方案。
