【ITBEAR】9月24日消息，在半導(dǎo)體行業(yè)邁向更先進(jìn)制程的浪潮中，計(jì)算光刻技術(shù)作為芯片制造的核心環(huán)節(jié)，正經(jīng)歷著從傳統(tǒng)方法到創(chuàng)新技術(shù)的深刻變革。特別是隨著制程技術(shù)向7nm乃至5nm節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)，傳統(tǒng)光刻技術(shù)因其規(guī)則局限性和優(yōu)化自由度不足，難以滿足日益復(fù)雜的芯片設(shè)計(jì)要求。在此背景下，反向光刻技術(shù)（ILT）以其獨(dú)特的優(yōu)化思路和顯著優(yōu)勢(shì)，逐漸成為行業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)。
ILT技術(shù)通過(guò)從目標(biāo)芯片圖案出發(fā)，逆向推導(dǎo)獲得最優(yōu)化的掩模圖案，極大地提升了優(yōu)化的靈活性和精準(zhǔn)度，更好地滿足了先進(jìn)制程對(duì)圖形精度的嚴(yán)苛要求。因此，在探索7nm及以下制程的征途中，ILT技術(shù)被視為提升制造良率的關(guān)鍵所在。尤其是在國(guó)內(nèi)尖端光刻設(shè)備受限的環(huán)境下，ILT技術(shù)的重要性更加凸顯。
據(jù)ITBEAR了解，ILT技術(shù)雖非新興，但由于其計(jì)算量大、效率低以及掩模復(fù)雜度高難于制造等技術(shù)難題，長(zhǎng)期以來(lái)尚未得到廣泛應(yīng)用。然而，作為國(guó)內(nèi)探索ILT技術(shù)的先驅(qū)之一，東方晶源通過(guò)采用GPU集群高性能計(jì)算解決方案，成功解決了計(jì)算量大的問(wèn)題，并率先實(shí)現(xiàn)了全芯片級(jí)別的基于ILT技術(shù)的掩模優(yōu)化。面對(duì)先進(jìn)制程的迫切需求，東方晶源近期又攻克了眾多技術(shù)難題，包括優(yōu)化收斂性、結(jié)果一致性、人工智能加速以及掩模復(fù)雜度重整化等，目前正在國(guó)內(nèi)各大Fab廠商加緊驗(yàn)證。
東方晶源的ILT解決方案以其獨(dú)特的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)，在行業(yè)中脫穎而出。該方案采用獨(dú)創(chuàng)的混合掩模優(yōu)化方法，顯著降低了計(jì)算復(fù)雜度，提升了整體計(jì)算效率，并在優(yōu)化輔助曝光信號(hào)的同時(shí)考慮三維掩模效應(yīng)，提供更為精準(zhǔn)的掩模結(jié)果。此外，通過(guò)引入人工智能技術(shù)，進(jìn)一步解決了ILT所需運(yùn)算時(shí)間長(zhǎng)的弊端，其深度學(xué)習(xí)模型預(yù)測(cè)結(jié)果與ILT計(jì)算結(jié)果相似度高達(dá)95%，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了近十倍的提速。
值得一提的是，東方晶源的ILT解決方案還支持不同復(fù)雜度的掩模設(shè)計(jì)，包括矩形圖形、曼哈頓圖形以及曲線圖形，從而適應(yīng)不同客戶及應(yīng)用場(chǎng)景的需求。自2014年成立以來(lái)，東方晶源在計(jì)算光刻領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新，構(gòu)建了全面且領(lǐng)先的技術(shù)體系。其旗下計(jì)算光刻平臺(tái)PanGen?已形成八大產(chǎn)品矩陣，具備完整的計(jì)算光刻相關(guān)EDA工具鏈條，并已在國(guó)內(nèi)各大Fab廠商廣泛應(yīng)用，量產(chǎn)掩模超過(guò)6000張。
展望未來(lái)，隨著ILT解決方案的不斷革新，其在效率和性能上的優(yōu)勢(shì)將更加突顯，必將在先進(jìn)制程研發(fā)和應(yīng)用中發(fā)揮重要作用，為提升良率、降低生產(chǎn)成本展現(xiàn)出獨(dú)特的價(jià)值。東方晶源將持續(xù)堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新，提供卓越的解決方案，為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步貢獻(xiàn)智慧和力量。#東方晶源# #反向光刻技術(shù)# #計(jì)算光刻# #先進(jìn)制程# #半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)#
