【ITBEAR科技資訊】5月26日消息，據(jù)塔斯社最新報(bào)道，俄羅斯在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，其首臺(tái)自主研制的光刻機(jī)已經(jīng)完成制造并進(jìn)入了測(cè)試階段。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)Vasily Shpak在近日透露了這一重要信息。
Shpak指出，這臺(tái)光刻機(jī)能夠確保生產(chǎn)出350納米工藝的芯片，這標(biāo)志著俄羅斯在半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)上邁出了重要一步。他強(qiáng)調(diào)，“我們已經(jīng)成功組裝并制造出了首臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，目前它正在作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分進(jìn)行測(cè)試。”此外，俄羅斯還設(shè)定了下一個(gè)目標(biāo)，即在2026年制造出可以支持130nm工藝的光刻機(jī)。
350納米工藝的芯片，雖然在某些領(lǐng)域可能被視為較為落后的技術(shù)，但實(shí)際上，它仍然在汽車(chē)、能源和電信等多個(gè)行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。因此，這臺(tái)光刻機(jī)的成功研制，無(wú)疑將增強(qiáng)俄羅斯在這些關(guān)鍵領(lǐng)域的自主研發(fā)和生產(chǎn)能力。
此前俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所(IPF RAS)曾宣布，他們正在開(kāi)發(fā)俄羅斯首套能夠使用7nm工藝生產(chǎn)芯片的光刻設(shè)備，并計(jì)劃在2028年全面投產(chǎn)。這一雄心勃勃的計(jì)劃顯示出俄羅斯在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的長(zhǎng)遠(yuǎn)規(guī)劃和堅(jiān)定決心。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，該研究所計(jì)劃在六年內(nèi)完成光刻機(jī)的工業(yè)原型制作。其中，2024年將開(kāi)發(fā)出一臺(tái)名為“alpha機(jī)器”的初步版本，其重點(diǎn)不在于工作速度，而在于系統(tǒng)的全面性。此后，將在2026年以更加優(yōu)化和高效的“Beta版本”取代“alpha機(jī)器”，并計(jì)劃將其集成到實(shí)際的技術(shù)流程中。
