4 月 18 日消息，荷蘭半導體設備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機。
這臺高端光刻機旨在制造比當前低 NA EUV 設備所能制造的更高密度的芯片。據路透社報道，第二臺高端光刻機的出貨意味著這一最新技術正逐漸被采用。
然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實上，英特爾已經購買了首臺高數值孔徑 EUV 光刻機，用于其即將推出的 14A 制程節點。正如 ASML 在提交給美國證券交易委員會的文件（第 13 頁）中提到的，英特爾在 2024 年初于其位于俄勒岡州希爾斯伯勒的工廠接收了首臺 TWINSCAN EXE:5200 系統。臺積電和三星也已經確認有意采用 ASML 的高數值孔徑 EUV 光刻機。
不過，這三家頂尖半導體公司并非唯一可能的買家。去年 12 月，有傳聞稱由 IBM 和美光等公司運營的一家正在建設的半導體工廠將獲得一臺 ASML 的高數值孔徑 EUV 光刻機，這臺機器有可能就送到了那里。此外，如果機器被英特爾、臺積電或三星拿到手，很可能難以保密太久。
盡管目前為止只有兩臺這樣的高端光刻機投入使用，但 ASML 計劃生產更多設備，該公司已經收到額外的 10 到 20 臺訂單，每臺售價 3.5 億歐元（IT之家備注：當前約 27.02 億元人民幣），這意味著 ASML 目前已收到至少 35 億歐元的訂單。結合已經售出的兩臺機器，預計 ASML 未來高數值孔徑 EUV 光刻機的銷售額將超過 40 億歐元。
【來源：IT之家】
